单晶圆光罩清洗机

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单晶圆光罩清洗机

适用于行业主流的6”, 7", 9" 光罩Mask清洗。
设备配备多级精密过滤系统，有效保证洁净等级，满足制程需求Class10/100。
采用离子气吹工艺，可实现360°清洗，保证制程的高精度清洗需求。
支持EAP/MES/AMHS主流通讯协议，SECS/GEM200/300支持OHT/PGV/AGV设备对接符合SEMIS2、CE半导体制造标准及认证。

单晶圆光罩清洗机

产品特点

01

密封式独立清洗腔体，清洗效果更好，洁净度更高。

02

自动Load Port和主流E84传感器，对接OHT天车，稳定、高效。

03

各腔体可单独控制运行，互不干涉。

应用范围

技术参数

设备尺寸

2560mm(L)×2440mm(W)×1890mm(H)
（含脚杯+排气口高度）仅供参考

应用范围

6", 7", 9" 光罩Mask

夹具类型

边缘多点夹持Edge gripper

净重

1500Kg

主轴转速

0~1500rpm

WPH

15pcs/Chamber（6“ Mask）

主轴旋转方式

正转/反转

电源供应

三相五线AC380V 50Hz

噪音

＜75db

主要材质

机身：SUS304 管路：PFA

严正声明

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深圳市凯尔迪光电科技有限公司

2024年8月07日