8月31日至9月2日，第十四届半导体设备材料及核心部件展（CSEAC 2026）在无锡举行，现场汇聚了半导体产业链上下游企业，聚焦半导体前道制造、后道封测、关键材料、核心零部件等多项服务领域，共话半导体产业高质量发展新未来。

深圳市凯尔迪光电科技有限公司携核心清洗设备亮相本次展会，与到场企业代表、行业伙伴等面对面交流先进清洗解决方案。

展会现场，凯尔迪重点展出两款核心设备：

ECO‑50VS Plus‑EX 环保型在线式 FLUX 清洗设备

设备支持清洗剂回收再利用，实现全自动清洗，能有效帮助企业降本增效；对铜、银、铝等多种材料具备优异兼容性；同时采用零排放工艺，无废水产生，绿色环保......可广泛适用于光模块、AI算力芯片等高精密组件的清洗应用场景。

FP‑120M 全自动 FOUP Clean 清洗设备

主打高产能输出，设备占地面积更小，全面兼容市面主流标准 FOUP 及 FOSB，面向 300mm Wafer FOUP、300mm Wafer FOSB 晶圆载具清洗场景，为晶圆制造环节提供可靠的载具清洗保障。

本次 CSEAC 之行，凯尔迪不仅展示了自主研发的半导体清洗设备硬实力，也借此契机与行业同仁深度交流，充分了解市场真实需求，进一步夯实在半导体清洗设备领域的技术沉淀，助力半导体封测、晶圆制造等企业实现工艺升级与绿色生产。

精彩不停，凯尔迪期待与大家在10月14-16日的湾区半导体产业生态博览会再次相见！